设备展示
持续为合作伙伴提供优良的产品,专业的技术和优良的服务,为客户提供性价比更高的产品和服务。
2000
年
公司成立于2000年
14000
㎡
占地面积共计14000平方米
200
余台
各类加工设备200余台
200
余名
员工200余名
企业文化
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企业文化
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新闻资讯
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2026-01-24
新年伊始,万象更新。京津科技谷以“开局即冲刺”的奋斗姿态,吹响高质量发展冲锋号。一批重点项目紧抓春光、全速推进,以实干实绩落实全市高质量发展“十项行动”和区委“3+1+1”工作思路,主动为全区发展做出更多贡献。
2025-01-06
什么是热氧化工艺?热氧化工艺是在半导体制造过程中用于在晶圆表面生成氧化硅(SiO₂)层,分为湿氧与干氧,主要在芯片制程中用来做绝缘层如栅氧化层,场氧化层,STI隔离层,或保护钝化层等。